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换气次数是洁净空气进入房间的次数等于房间容积的倍数，其单位为次/小时，如果一小时内引入的空气量与房间容积相同，换气次数为1次/小时，以此类推，换气次数是决定乱流洁净室洁净度水平的最重要参数。
以下是来自成都鸿洁源的详细介绍如何才能了解更多洁净厂房的建设知识？ 成都鸿洁源专业从事净化工程施工，聘请资深行业专家作为技术顾问，引进国际先进的净化车间管理经验，在工程的每一个环节充分发挥每一位员工的积极性。为了提高工程质量，提供合适的施工方案。为电子、食品、保健品、化妆品、药品、医疗器械、医用生物等行业的工厂，以及生产、检验、教学、科研的实验室等各类医疗用房提供具有工程、设备和技术支持的优质产品和服务，以满足国内外客户的需求。
净化车间的温度和湿度主要根据你的加工工艺要求来决定。在满足加工工艺的条件下，应首先考虑人的舒适性。随着空气洁净度要求的提高，工艺对温湿度的要求越来越高，必须达到一定的温湿度水平。例如，在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，要求作为掩膜材料的玻璃和硅片的热膨胀系数之差越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，引起0.24um的线膨胀，所以需要恒温0.1度，湿度值一般较低，因为人出汗后，产品会被污染，尤其是怕钠的半导体车间，这个车间不要超过25度。湿度过大会导致更多的问题。当相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会发生凝结。如果发生在精密器件或电路中，会造成各种事故。相对湿度50%时容易生锈。
洁净室的气流是洁净室洁净度的一个重要因素。一般洁净室的气流速度在0.25-0.5m/s之间，属于微风区，容易受到人和机器动作的干扰。虽然提高风速可以抑制这种干扰的影响，保持洁净室的洁净度，但风速的提高会影响运行费用的增加，因此在满足所需洁净度的同时，应提供最合适的风速。
干净的概念？按照国际惯例，无尘净化水平主要是根据每立方米空气中直径大于分类标准的颗粒物数量来定义的。控制在一个非常小的单元中。与我们常见的灰尘相比，该标准中的灰尘颗粒非常小，但即使是一点点灰尘也会对光学结构产生非常大的负面影响，所以无尘是光学结构产品生产的必然要求。如果每立方米小于0.5微米的尘粒数控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。目前应用于芯片级生产加工的无尘标准对粉尘的要求比A级更高，这样的高标准主要用于一些更高级别的芯片生产。细粉尘量严格控制在每立方米1000个以内，也就是业内俗称的1K级别。
