按照国际惯例，无尘净化水平主要是根据每立方米空气中直径大于分类标准的颗粒物数量来定义的。也就是说，所谓无尘并不是100%无尘，而是控制在一个非常小的单元内。当然，这个标准中符合粉尘标准的颗粒相对于我们常见的粉尘来说是非常微小的，但是对于光学结构来说，哪怕是一点点的粉尘都会产生非常大的负面影响，所以无尘是光学结构产品生产的必然要求。
如果每立方米小于0.5微米的尘粒数控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。目前应用于芯片级生产加工的无尘标准对粉尘的要求比A级更高，这样的高标准主要应用于一些更高级别的芯片的生产。细粉尘量严格控制在每立方米1000个以内，也就是业内俗称的1K级别。
